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高速・低ダメージの表面処理技術

国立大学法人金沢大学

石川県金沢市角間町 金沢大学内

この技術でできること

熱プラズマを用いた浸炭処理方法と、その装置に関する特許

技術の特徴

高周波誘導熱プラズマを利用した表面処理方法と装置について、高温の熱プラズマが被処理物に与える熱的ダメージを抑制しながら、高速に表面処理を行う技術が開示されています。特に、シリコン試料に対して、Ar、H、CHの混合ガス雰囲気中で浸炭処理を行う手法や、そのための装置が提案されています。この装置は、熱プラズマに磁界を印加するコイルと、そのコイルに流れる電流値を制御する電流制御部、そして熱プラズマの発光スペクトルを計測する分光器を備えています。こうした技術は、炭素膜の生成や炭素処理などの様々な表面処理に応用可能です。

関連キーワード

熱プラズマ浸炭処理表面処理炭素膜生成炭素処理

AIによる特許活用案

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高速・低ダメージの表面処理技術の開発

この特許技術を用いて、炭素膜の生成や炭素処理などの表面処理を高速かつ低ダメージで行う新たな装置や方法を開発することが可能です。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2012-061001
発明の名称
表面処理方法、及び、表面処理装置
出願人/権利者
国立大学法人金沢大学
住所
石川県金沢市角間町 金沢大学内
公開番号
特開2013-194265
登録番号
特許第5984110号
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