多層膜の新時代へ、金属多層膜の成膜方法

大陽日酸株式会社

東京都品川区小山１－３－２６

この技術でできること

異なる金属膜の積層構造からなる金属多層膜の成膜方法を提供します。

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、化学気相成長法により成膜する金属多層膜の成膜方法において、コバルト、ニッケル、マンガンからなる金属または合金からなる第1金属膜を真空状態で成膜する工程、第1金属膜に対してアルゴンプラズマ、またはアルゴン及びヘリウムからなるプラズマを照射する工程、そして、第1金属膜上に銅、アルミニウムからなる金属または合金からなる第2金属膜を成膜する工程を含むことを特徴とする成膜方法を提供します。これにより、下層の金属膜の化学気相成長法終了時に残る不純物を効率よく除去し、引き続く直上層の金属膜を密着性に優れ、均一かつ平滑で段差被覆性の良好な金属膜として成膜することが可能になります。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造業ナノテクノロジー材料科学

高品質な半導体製造

本特許は、半導体デバイスの配線スケールの縮小を進める際に、金属多層膜の成膜方法が必要となります。そのため、本特許の技術を用いれば、高品質な半導体デバイスの製造が可能になります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2012-059245
発明の名称: 金属多層膜の成膜方法および金属多層膜の成膜装置
出願人／権利者: 大陽日酸株式会社
住所: 東京都品川区小山１－３－２６
公開番号: 特開2013-194247
登録番号: 特許第5859885号

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