真空環境での高速・高精度製膜を可能にする蒸着用シャッター装置

国立研究開発法人物質・材料研究機構

茨城県つくば市千現１－２－１

この技術でできること

真空環境下で、クヌーセンセルなどから蒸発する分子等のビームを高速・高精度で遮蔽・射出を制御し、薄膜や多層膜、多元複合材料膜等の創製が可能な蒸着用シャッター装置。

相談したいこと

技術の特徴

本発明は、クヌーセンセルなどから蒸発する分子等のビームを高速・高精度で遮蔽・射出を制御し、薄膜や多層膜、多元複合材料膜等の創製が可能な蒸着用シャッター装置を提供します。従来のシャッター装置では射出物質の高速遮蔽・射出制御が困難であり、膜構成物質の組成比率を的確に把握することが難しかった。しかし、本発明のシャッター装置は、少なくとも2枚以上の羽根部により開口部を全閉した状態と全開した状態の少なくとも一方の姿勢を有することで、射出物質の遮蔽・射出制御を高速化し、組成比率の探索に重要な要素となります。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造業素材研究開発宇宙・航空産業

半導体製造プロセスの高速化

本発明の蒸着用シャッター装置は、半導体製造のプロセスにおいて、膜の構成物質の組成比率を傾斜的に変化させることで、半導体の性能を最適化するための重要な手段となります。特に、膜の製造速度を向上させることで、生産効率の向上とコスト削減に貢献できます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2012-253996
発明の名称: 蒸着用シャッター装置及びこれを用いた成膜装置
出願人／権利者: 国立研究開発法人物質・材料研究機構
住所: 茨城県つくば市千現１－２－１
公開番号: 特開2013-136834
登録番号: 特許第6008321号

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