高品質なスパッタ成膜を手に入れる新技術

国立研究開発法人物質・材料研究機構

茨城県つくば市千現１－２－１

この技術でできること

本特許は、夫囲気ガス圧力を低くし、良好なプラズマを安定生成しながら、高品質のスパッタ成膜が得られるコンビナトリアル成膜装置について述べています。

相談したいこと

技術の特徴

本特許では、半導体ウエハに薄膜を蒸着し、有機化合物の蒸着膜を形成するためのスパッタガンを用いたコンビナトリアル成膜装置について説明しています。この装置は、薄膜の成膜用のスパッタガンを使用し、素材の組成比率を傾斜的に変化させることで、目的とする製品の最適な組成を探索します。さらに、ガス圧を低くすることで、高品質のスパッタ成膜を得ることができます。これは、コーティング内の不純物量を減らし、膜の密度を高め、成膜成分の純度を高めることを意味します。また、特許では、スパッタガン先端部近傍に直接ガスを吹き付けることで、ガス圧を低くし、膜質を向上させる方法も説明しています。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造化学産業電子部品製造

半導体製造プロセスの改善

本特許の技術を半導体製造プロセスに活用することで、薄膜成膜の品質を向上させ、製造コストを削減することが可能です。また、品質の向上は製品のパフォーマンス向上に繋がり、市場競争力を強化することが期待できます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2012-248866
発明の名称: コンビナトリアル成膜装置
出願人／権利者: 国立研究開発法人物質・材料研究機構
住所: 茨城県つくば市千現１－２－１
公開番号: 特開2013-136832
登録番号: 特許第6008320号

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