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光学素子の欠陥を一掃、断層像測定装置

国立大学法人 千葉大学

千葉県千葉市稲毛区弥生町1-33

この技術でできること

高感度の測定器具を利用して光学素子の内部の欠陥を発見、測定する装置

技術の特徴

この装置は、光学素子の内部欠陥を発見し測定するための技術で、光学素子の製造工程で生じる可能性のある欠陥を事前に発見し、除去することが可能です。欠陥が存在すると、光学素子は光を所望の状態にすることができず、これを組み込んだ装置は正常に機能しなくなる可能性があります。この装置は、測定対象からの光を屈折させて集光させる第一のレンズ、第一のレンズを透過した光の光路長を調整する光路調整部、光路調整部からの光を撮像素子上に集光させる第二のレンズを有します。さらに、光路調整部は、回転板と、回転板を駆動する駆動部、回転板上に配置される回転反射部材を有します。

関連キーワード

光学素子欠陥検出断層像測定装置高感度測定光路調整

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光学素子製造工程の品質管理

この装置を製造工程に組み込むことで、製造中に発生する欠陥を発見し、製品の品質を向上させることが可能です。また、不良品の出荷を防ぎ、製品の信頼性を高めることができます。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

掲載者による選択状態を表示しています。未選択や ASK は、利用不可を意味するものではありません。

権利概要

出願番号
特願2011-263126
発明の名称
断層像測定装置
出願人/権利者
国立大学法人 千葉大学
住所
千葉県千葉市稲毛区弥生町1-33
公開番号
特開2013-117377
登録番号
特許第5867855号
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