革新的な断層測定装置と方法

国立大学法人　千葉大学

千葉県千葉市稲毛区弥生町１－３３

この技術でできること

光干渉技術を用いた効率的な断層測定装置と方法を提供します。

相談したいこと

技術の特徴

この発明は、光干渉技術を用いた断層測定装置とその方法に関するものです。光源から放出された光を分割し、それぞれ異なる光路を経て再び結合することで、光路差により発生する干渉縮を測定し、被測定物の表面状態を把握します。特に、光路長の変化を大きくすることで、支持反射部材を配置する支持板の半径や面積を大きくする必要がなく、断層測定装置の大型化を防ぐことが可能です。これにより、より小型で効率的な断層測定が可能となり、さまざまな分野での応用が期待されます。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 医療業界建設業界研究開発

医療分野での利用

この技術は、医療分野での利用が考えられます。特に、MRIやCTスキャンなどの画像診断に使用される断層測定装置に応用することで、より高精度な画像を得ることが可能となります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2011-185073
発明の名称: 断層測定装置及び断層測定方法
出願人／権利者: 国立大学法人　千葉大学
住所: 千葉県千葉市稲毛区弥生町１－３３
公開番号: 特開2013-044726
登録番号: 特許第5854396号

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