光路長の変化を大きくする革新的な断層測定装置

国立大学法人　千葉大学

千葉県千葉市稲毛区弥生町１－３３

この技術でできること

高精度な光干渉技術を活用した断層測定装置で、光路長の変化を大きくすることが可能。

相談したいこと

技術の特徴

この特許は、光源から放出された光を第一の光と第二の光に分割し、その分割された光の光路長を大きく変化させるための断層測定装置に関するものです。この装置は、光源、光分割部材、光路可変部材、光結合部材、振幅測定部材を有しています。光路可変部材は、支持板、回転支持部材、支持反射部材、第一の固定反射部材、第二の固定反射部材を有します。この構造により、光が反射され、再度入射されることで光路長の変化を大きくすることが可能になります。これにより、同じ支持板の径（面積）であってもより効率的な光路長の変化を実現し、高精度な断層測定が可能となります。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 医療機器研究開発製造業

高精度な医療診断装置の開発

この断層測定装置の技術は、光干渉技術を用いた高精度な医療診断装置の開発に活用できます。特に、眼科診断などにおける網膜の詳細な断層像の取得などに役立つでしょう。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2011-181363
発明の名称: 断層測定装置
出願人／権利者: 国立大学法人　千葉大学
住所: 千葉県千葉市稲毛区弥生町１－３３
公開番号: 特開2013-044592
登録番号: 特許第5911087号

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