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高輝度なシリコンナノ粒子の製造、あなたの手に

国立大学法人広島大学

広島県東広島市鏡山1-3-2 本部棟2F

この技術でできること

この特許は、発光強度の高いシリコンナノ粒子とその製造方法について記述しています。

技術の特徴

本特許では、二酸化炭素からなる超臨界流体中に単結晶シリコンを保持し、200mJ以上の強度を有するレーザ光を単結晶シリコンに照射して製造されるシリコンナノ粒子について記述しています。また、これらのシリコンナノ粒子が炭化水素のカーボンまたは酸素に接続され、その結果、従来のシリコンナノ粒子よりも強い強度で発光することが示されています。さらに、透明体からなる容器にシリコンの粉体および有機溶媒を入れ、溶媒を提挫しながらパルスレーザをシリコンの粉体に照射する製造方法も提供されています。この特許の技術を用いれば、強い発光強度を持つシリコンナノ粒子を製造でき、様々な産業での活用が期待されます。

関連キーワード

シリコンナノ粒子レーザ照射発光強度製造方法超臨界流体

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高輝度ディスプレイの製造

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2011-028872
発明の名称
ナノ粒子、およびナノ粒子の製造方法
出願人/権利者
国立大学法人広島大学
住所
広島県東広島市鏡山1-3-2 本部棟2F
公開番号
特開2012-167175
登録番号
特許第5873637号
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