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高品質な金属膜の製造を効率化する特許技術

学校法人 工学院大学

東京都新宿区西新宿1丁目24番2号

この技術でできること

金属膜形成用組成物の製造方法、および金属膜の製造方法と装置に関する特許です。

技術の特徴

本特許は、金属膜の製造方法とその製造装置について述べています。この製造方法は、金属膜形成用組成物を基材上に付与し、特定の温度条件で加熱することにより金属膜を形成します。また、金属膜形成用組成物をスプレー塗布する工程や、形成された金属膜を特定の温度条件でアニール(熱処理)する工程を含みます。また、得られた金属膜は、銅を主成分とし、特定の膜厚を有することが特徴です。本特許において提案される金属膜形成用組成物の製造装置は、金属イオンが透過せず水素イオンが透過するフィルタを備えた流路を介して連結された電解液槽、金属製の一対の電極、および電圧を印加する直流電源を備えています。これにより、金属膜の品質を高めつつ製造効率を向上させることが可能となります。

関連キーワード

金属膜製造方法製造装置組成物アニール

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高品質な電子部品の製造

本特許の技術を活用し、電子部品の一部として使用する金属膜の品質を向上させることができます。特に、膜厚の一定性や成分の均一性が求められる部品の製造に適しています。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2020-539453
発明の名称
金属膜形成用組成物の製造方法、金属膜の製造方法、金属膜、金属膜積層体及び金属膜形成用組成物の製造装置
出願人/権利者
学校法人 工学院大学
住所
東京都新宿区西新宿1丁目24番2号
公開番号
WO2020/045367
登録番号
特許第6912845号
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