精密ながら効率的な粒子線照射システム

国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構

千葉県千葉市稲毛区穴川４－９－１

この技術でできること

高度な粒子線照射システムで、必要な場所に精密な照射を実現。

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、電磁場発生装置を活用した粒子線照射システムに関するものであり、磁場や電場の影響下での粒子線の細胞殺傷効果を考慮した照射計画を作成し、照射対象に精密に照射することが可能です。また、照射計画は予め定められた一定の繰り返し演算数を超えた場合に作成されるため、効率的に照射計画を立てることが可能です。電磁場発生装置は、磁場発生体を切り替えて複数種類の磁場を形成できる構成であり、照射方向に対して平行な成分が垂直な成分よりも多い平行成分過多磁場を発生させることができます。これにより、粒子線の照射方向を正確に制御することが可能となります。

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精密な放射線治療

この技術は医療分野での放射線治療に活用できます。照射計画を精密に立てることで、がん細胞に対する照射効果を最大化しつつ、健康な細胞への影響を最小限に抑えることが可能となります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

掲載者による選択状態を表示しています。未選択や ASK は、利用不可を意味するものではありません。

権利概要

出願番号: 特願2020-525729
発明の名称: 粒子線照射システム、粒子線照射方法、照射計画プログラム、照射計画装置、電磁場発生装置、および照射装置
出願人／権利者: 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構
住所: 千葉県千葉市稲毛区穴川４－９－１
公開番号: WO2019/244854
登録番号: 特許第7373204号

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