未来の素材、低密度ゲル体の誕生

国立大学法人京都大学

京都府京都市左京区吉田本町

この技術でできること

ポリシロキサン鎖と有機重合鎖を含む新たな低密度ゲル体の製造方法を特許化しました。

相談したいこと

技術の特徴

ポリシロキサン鎖と有機重合鎖を含む低密度ゲル体を製造する方法を提供します。この特許は、有機前駆鎖を含む繰り返し単位人が加水分解性の官能基が2つ以上結合したケイ素原子を側鎖に有する溶液系において、ゾルーゲル法により、繰り返し単位への側鎖に位置する官能基の加水分解反応と、ケイ素原子を有する側鎖間の重縮合反応を進行させ、湿潤ゲルを形成する工程を含みます。さらに、この湿潤ゲルを乾燥させて、骨格と細孔を有する低密度ゲル体を得る工程も含まれています。これにより、新たな材料としての低密度ゲル体の製造が可能となります。

AIによる特許活用案

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新素材としての利用

この低密度ゲル体は、その特性を活かして新たな素材としての利用が可能です。特に、その低密度と高い透過率は、光学素材や熱絶縁素材としての応用が期待されます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2019-537674
発明の名称: 低密度ゲル体とその製造方法
出願人／権利者: 国立大学法人京都大学
住所: 京都府京都市左京区吉田本町
公開番号: WO2019/039541
登録番号: 特許第7164886号

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