革新的なナノ炭素材料膜の製造技術

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

特許 JP 6870860 B2 は、特異な物理化学的性質を持つナノ炭素材料膜の製造方法とその製造装置について述べています。

相談したいこと

技術の特徴

この特許では、ナノ炭素材料を用いた膜の製造方法と装置が詳細に説明されています。分散剤により分散されたナノ炭素材料を含む分散液を基材上に保持または収容し、紫外光照射によってナノ炭素材料を基材上に堆積させることで膜を形成します。特に、基材は様々な素材から選択可能で、平面または曲面状の形状を持つことが可能であり、微細な凹凸構造を有することも可能です。また、光源や基板の移動により光の照射領域を動かし、移動中に光が照射された領域に膜を形成することも提案されています。このような技術は、電気的特性を維持しながらナノ炭素材料膜を製造するのに有用で、様々な産業での応用が期待されます。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体産業ナノテクノロジー材料科学

高性能電子デバイスの製造

この技術を利用して、電気的特性を維持しながらナノ炭素材料膜を形成することが可能です。これにより、高性能電子デバイスの製造が可能となり、次世代の半導体製品の開発を促進することができます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2018-549104
発明の名称: ナノ炭素材料膜の製造方法と装置
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: WO2018/084297
登録番号: 特許第6870860号

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