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非接触での応力検査を可能にするテラヘルツ光を用いた光学測定装置

学校法人慶應義塾

東京都港区三田2-15-45

この技術でできること

高分子材料の内部応力を非接触で分析し、材料の安全性を向上させる光学測定装置

技術の特徴

本特許は、テラヘルツ光を用いた偏光測定と、これを利用した非接触の応力検査に関するものです。光学測定装置は、偏光制御手段を通過するテラヘルツ光が互いに異なる偏光となるように制御し、サンプルで反射されたテラヘルツ光から偏光成分を抽出します。この偏光成分から抽出された互いに直交する電場成分に基づいて、サンプルの固有軸の向きと屈折率異方性を決定します。さらに、固有軸の向きと屈折率異方性に基づいて、サンプルの内部の応力分布を求めることが可能です。これにより、非破壊・非接触での高分子材料の安全性評価が可能となります。

関連キーワード

光学測定装置テラヘルツ光非接触検査高分子材料応力分布

AIによる特許活用案

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高分子材料の品質保証

本装置は、高分子材料の生産過程で内部の応力状態を非接触で測定し、品質保証に活用することが可能です。異常な応力分布を示す製品を早期に見つけ出し、問題のある製造工程を特定することで、製品の安全性と品質を向上させることができます。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

掲載者による選択状態を表示しています。未選択や ASK は、利用不可を意味するものではありません。

権利概要

出願番号
特願2018-537278
発明の名称
光学測定装置、光学測定方法、及び応力検査方法
出願人/権利者
学校法人慶應義塾
住所
東京都港区三田2-15-45
公開番号
WO2018/043438
登録番号
特許第6843397号
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