革新的な金属膜形成用組成物

学校法人　工学院大学

東京都新宿区西新宿１丁目２４番２号

この技術でできること

異なる種類の金属原子と配位子を用いて金属膜を形成するための組成物

相談したいこと

技術の特徴

本発明は、特定の金属原子と配位子を用いて金属膜を形成するための組成物に関するものです。金属原子はAg、Cu、Li、Ni、Mn、Zn、Coから選ばれ、配位子はNH、R、OH、またはジアミン由来のものであり、これらの組み合わせによって、特定の条件下での金属膜の形成を可能にします。また、本発明の組成物は、アミノポリカルボン酸の錯体、アミノ酸化合物、およびアミノ酸化される化合物に由来する対アニオンを含みます。これらの組成物は、金属膜形成用組成物全量に含まれる金属原子の含有基が0.5質量% - 10質量%の範囲であることが特徴です。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造業化学工業電子部品製造業

高品質な半導体製造

本発明の金属膜形成用組成物は、半導体製造における金属膜の形成に利用可能です。特定の金属原子と配位子の組み合わせにより、均一で高品質な金属膜を形成することが可能となり、結果として性能の高い半導体を製造することができます。

続きの活用案は会員限定です

無料登録またはログイン後に、公開範囲に応じて確認できます。

参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

掲載者による選択状態を表示しています。未選択や ASK は、利用不可を意味するものではありません。

権利概要

出願番号: 特願2017-565604
発明の名称: 金属膜形成用組成物および金属膜形成方法
出願人／権利者: 学校法人　工学院大学
住所: 東京都新宿区西新宿１丁目２４番２号
公開番号: WO2017/135330
登録番号: 特許第6953006号

登録情報の修正申請