ナノテクノロジーを駆使した新世代のスパッタリング装置

国立大学法人北海道大学

北海道札幌市北区北２１条西１１丁目　北キャンパス総合研究棟３号館

この技術でできること

グラフェン上に単原子を島状に積層し分散する技術を用いたスパッタリング装置とその製造方法。

相談したいこと

技術の特徴

本発明は、ナノグラフェンからなる1または複数の層がグラフェン上に島状に積層した積層体を含む支持体上に、一部を単原子で分散させるスパッタリング装置及びその製造方法に関するものです。スパッタリングが可能な原子を含むターゲットと、スパッタガスを導入する部分、電圧を印加する部分などを備えた装置を用いて、予め求められた条件下でスパッタリングを行います。この装置と方法は、高機能な触媒の製造、薄膜の形成、分子レベルでの化学的または物理的な反応の研究など、様々な分野での応用が期待されます。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造化学ナノテクノロジー

高性能触媒の製造

この装置と方法を使用することで、単原子が分散した粒子を製造することが可能になります。これにより、一般的にはバルク状態の金属とは異なる性質を持つ粒子を作り出すことができ、これらの粒子を用いて高機能な触媒を製造することが可能になります。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2017-565507
発明の名称: 支持体上に単原子が分散した構造体、支持体上に単原子が分散した構造体を製造する方法およびスパッタ装置
出願人／権利者: 国立大学法人北海道大学
住所: 北海道札幌市北区北２１条西１１丁目　北キャンパス総合研究棟３号館
公開番号: WO2017/135136
登録番号: 特許第6957022号

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