高速、高精度、エコフレンドリーなナノインプリント技術

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

本特許は、半導体デバイスのナノ加工における高精細なパターン形成技術、特にナノインプリント技術に関して述べています。

相談したいこと

技術の特徴

近年、半導体デバイス等の微細化が進み、一層の進展により高速なシステムと低消費電力動作が求められています。これに対応するためのリソグラフィ技術の装置等は高価となってきています。そこで、装置価格や使いやすさなどが安価でありながら、高解像度を有する微細パターン形成が可能なナノインプリントが注目されています。ナノインプリントでは、一度モールドを作製すれば、ナノ構造が科学的に繰り返し成型できるため、高いスループットが得られて経済的です。しかし、モールド凹部とレジスト間に大気が封止され、圧縮を受けて体積が減少すると、樹脂表面のエネルギーが低下し、転写精度が低下する問題があります。本特許では、この問題を解決するための技術を提案しています。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体製造業ナノテクノロジー材料科学

高解像度パターン形成技術の開発

ナノインプリント技術は、高解像度のパターン形成が可能であるため、半導体デバイス等の微細化が進む現代において、高精度なパターン形成技術の開発に活用することができます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2017-547737
発明の名称: インプリント装置
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: WO2017/073388
登録番号: 特許第6503606号

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