高性能な透明導電膜の実現：カーボンナノチューブ複合膜

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

高透過率と低電気抵抗を持つカーボンナノチューブ複合膜の製造方法。

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、カーボンナノチューブ複合膜の製造方法について述べています。該当の膜は、カーボンナノチューブと無機半導体からなる薄膜の積層膜を形成し、その後パルス光を照射して無機半導体粒子をカーボンナノチューブの結節点に移動させるという手法を用いています。この結果、光学的透過率が50-98%の範囲、膜の厚みが1-1000nmの範囲、シート抵抗が1-10000Ω/squareの範囲であることを特徴とした透明導電膜を製造することが可能となります。これにより、高透過率と低電気抵抗を両立した透明導電膜の製造が可能となり、ITO膜に代わる新しい電極材料として期待されています。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2016-554127
発明の名称: デバイス及びカーボンナノチューブ複合膜の製造方法
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: WO2016/060225
登録番号: 特許第6455944号

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