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高効率光学過程の実現を可能にする革新的レーザー装置

国立大学法人電気通信大学

東京都調布市調布ケ丘1丁目5−1

この技術でできること

光の設計方法と装置を提供し、レーザー光の特性を任意に変化させることができる新しいレーザー装置です。

技術の特徴

この特許は、レーザー光の特性を任意に変化させ、高効率で光学過程を実現する新しいレーザー装置に関するものです。特に、レーザー光を構成する離散的なスペクトルの強度分布、偏光分布、スペクトル位相を自由に変化させることが可能で、これらの手法を組み合わせることで、種々の光波形を持つレーザー光を作り出すことができます。また、入射レーザー光と発生レーザー光の異なる周波数間の間隔が10THz以上であることが特徴的です。これにより、より微細かつ高精度な加工が可能になり、レーザー光の高出力化や高効率化に寄与します。

関連キーワード

レーザー装置光学過程高効率レーザー光光の設計方法

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高精度な加工技術の開発

このレーザー装置は、より微細かつ高精度な加工が可能であるため、高精度な加工技術の開発に活用できます。特に、LSI製造のリソグラフィ用の光源やレーザーを用いた加工技術にとって有益です。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2016-518246
発明の名称
レーザー装置
出願人/権利者
国立大学法人電気通信大学
住所
東京都調布市調布ケ丘1丁目5−1
公開番号
WO2015/170780
登録番号
特許第6628287号
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