高精度なパターン膜形成装置

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

この技術でできること

溶媒吸収性シリコーンゴムからなるブランケットとインク膜形成手段を用いたパターン膜形成装置

相談したいこと

技術の特徴

本発明は、溶媒吸収性シリコーンゴムからなるブランケットと、そのブランケットの平滑な表面にインク膜を形成するインク膜形成手段を具備するパターン膜形成装置に関する。さらに、該凸版の凸部表面は、ブランケットの平滑な表面上の半乾燥後のインク膜に押し当てられ、該凸部表面に転写されたインクが被転写物に押し当てられ、被転写物表面にインク膜が転写されるように構成されている。これにより、パターン幅の寸法によらず、パターンの厚みがほぼ一定であり、その表面が平滑かつ断面形状が均一であるパターン膜を作製することが可能となる。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 印刷業界電子部品製造業デバイス製造業

高解像度の印刷物の作成

本発明のパターン膜形成装置を利用することで、高解像度の印刷物を作成することが可能となる。特に、電子デバイスの製造などにおいては、高精度なパターン膜が要求されるため、本発明のパターン膜形成装置の使用は大いに有効である。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2016-510084
発明の名称: 均一膜厚かつ矩形断面を有するパターン膜形成方法、形成装置
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: WO2015/146260
登録番号: 特許第6655844号

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