高度な磁化構造で記録媒体の新時代を切り開く

国立研究開発法人物質・材料研究機構

茨城県つくば市千現１－２－１

この技術でできること

高度に制御された立方晶材料を用いた垂直磁化層を有する磁化膜構造

相談したいこと

技術の特徴

本特許は、特定の立方晶材料を用いた磁化膜構造に関するもので、これにより高度に制御された磁化特性を有する製品の製造が可能となります。特に、金属下地層に立方晶材料からなる垂直磁化層を形成することで、記録媒体の磁化特性を大幅に改善することが可能となります。また、この金属下地層は特定の角度範囲で基板に対して配置され、その上にCo基ホイスラー合金、bcc構造のコバルト-鉄合金やマンガン-ガリウム合金等から選ばれた組成材料を持つ立方晶材料が成長します。これにより、高性能な記録媒体や磁気デバイスの製造が可能になります。

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高性能な記録媒体の生産

特許の技術を用いて高度に制御された磁化特性を有する記録媒体を生産することができます。これにより、記録媒体の性能を大幅に向上させることが可能となり、大容量データの記録や高速データ転送に対応した製品を市場に提供することができます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2016-508805
発明の名称: 垂直磁化膜用下地、垂直磁化膜構造、垂直ＭＴＪ素子及びこれらを用いた垂直磁気記録媒体
出願人／権利者: 国立研究開発法人物質・材料研究機構
住所: 茨城県つくば市千現１－２－１
公開番号: WO2015/141794
登録番号: 特許第6288658号

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