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高精度ガスハイドレートサンプリング装置

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)

高精度ガスハイドレートサンプリング装置
掲載画像・国立研究開発法人産業技術総合研究所

この技術でできること

本特許は、サブサンプリング装置と方法に関するもので、特にガスハイドレートのサンプリングに特化しています。

技術の特徴

本発明は、ガスハイドレートのサンプリングに関するもので、サブサンプリング装置とその方法について記載しています。ガスハイドレートは、水分子により形成されたかご状構造内にガス分子が包蔵された低温高圧条件下で安定な固体です。この特許では、試料が収容された後に、試料容器の開放端が容栓され、サンプリングパイプの前方空間と後方空間との圧力差を生じさせることで、サンプリングパイプを軸線方向に沿って摺動させ、試料採取を行う方法を提供しています。さらに、サンプリングパイプの先端に保持された採取試料を収容させ、試料容器の開放端を密栓する工程も含まれています。これにより、ガスハイドレートの分解を防ぎながら、高精度のサンプリングを可能にします。

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ガスハイドレートの精密採取

本特許技術は、ガスハイドレートの採取において、その特性を保持しながら高精度でサンプリングを行うことが可能です。これにより、資源量やガスの生産性をより高精度に評価することが可能となります。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2015-552406
発明の名称
サブサンプリング装置及び方法
出願人/権利者
国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所
茨城県つくば市梅園1-1-1 つくば中央第1(産総研内)
公開番号
WO2015/087767
登録番号
特許第6187945号
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