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光応答性核酸操作の革新:光架橋形成の抑制技術

国立研究開発法人科学技術振興機構

東京都千代田区四番町5-3 サイエンスプラザ

光応答性核酸操作の革新:光架橋形成の抑制技術
掲載画像・国立研究開発法人科学技術振興機構

この技術でできること

本特許は、光応答性核酸と部分相補性核酸の間の光人架橋形成を抑制する方法を提供します。

技術の特徴

この技術は、具体的には、式Iで表される修飾ヌクレオチドがリン酸ジエステル結合して導入されてなる部分相補性核酸を使用し、光応答性核酸と部分相補性核酸との間の光架橋形成を抑制します。また、同一の分子内で光応答性部分塩基配列と相補性部分塩基配列を含む光応答性核酸と部分相補性核酸の分子が同一である場合、その光人架橋形成の抑制方法が、光応答性塩基及び光架橋可能なチミン (T) 又はウラシル (U) の塩基の間の光人架橋によって、光応答性核酸の自己架橋体形成を抑制するものです。さらに、光応答性塩基が3-ビニルカルバゾール構造を有する場合や特定のビニル構造を有する場合も含まれます。

関連キーワード

光応答性核酸光人架橋形成ビニルカルバゾール構造

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新たな医薬品開発

本技術を用いることで、光応答性核酸と部分相補性核酸の間の光人架橋形成を抑制することが可能になり、これにより新たな医薬品の開発が可能となります。

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参考情報

活用条件

  • サブスクリプション・未選択
  • 権利譲渡・未選択
  • ライセンス契約・未選択
商品化・サービス化
ASK
実証実験
ASK
サンプル・プロトタイプ
ASK

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権利概要

出願番号
特願2015-545312
発明の名称
光架橋形成抑制方法、及び自己架橋体形成抑制型光応答性核酸
出願人/権利者
国立研究開発法人科学技術振興機構
住所
東京都千代田区四番町5-3 サイエンスプラザ
公開番号
WO2015/064718
登録番号
特許第6430953号
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