ポリイミドの微細パターン、新たな手法による劇的進化

国立研究開発法人産業技術総合研究所

茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）

掲載画像・国立研究開発法人産業技術総合研究所

この技術でできること

インプリント法を活用したポリイミドの微細パターン形成方法の発明

相談したいこと

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技術の特徴

従来のフォトリソグラフィ法では、微細なポリイミドのパターン形成には困難が伴い、またレーザー加工やエッチング法にも問題があった。本発明では、インプリント法を用いた新たなポリイミドの微細パターン形成方法を提供する。先ず、ポリイミドをガラス転移温度以上の温度まで加熱して軟化させ、モールドの凹凸パターンを押し当て加圧成形する。この状態で冷却し、モールドを離型すると、ポリイミド表面に凸凹が形成される。この方法により、従来のフォトリソグラフィ法に比べて大幅な工程短縮ができ、より効率的に微細なポリイミドパターンを形成することが可能となる。

AIによる特許活用案

おすすめ業界 半導体業界化学業界電子機器製造業界

半導体製造の効率化

本発明により、微細なポリイミドパターンの形成が効率的に行えるため、半導体製造のプロセスを大幅に短縮でき、生産性の向上が期待されます。

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参考情報

活用条件

サブスクリプション・未選択
権利譲渡・未選択
ライセンス契約・未選択

商品化・サービス化: ASK
実証実験: ASK
サンプル・プロトタイプ: ASK

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権利概要

出願番号: 特願2015-542536
発明の名称: インプリント法によるポリイミドの微細パターン形成方法
出願人／権利者: 国立研究開発法人産業技術総合研究所
住所: 茨城県つくば市梅園１－１－１　つくば中央第１（産総研内）
公開番号: WO2015/056487
登録番号: 特許第6192023号

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